Silicon Technologies. Ion Implantation and Thermal Treatment

Автор: Annie Baudrant
Язык: Английский
Тип: Текст
Опубликовано здесь:
Файл подготовлен:

The main purpose of this book is to remind new engineers in silicon foundry, the fundamental physical and chemical rules in major Front end treatments: oxidation, epitaxy, ion implantation and impurities diffusion.

Полная версия:

Отрывок

Спасибо за оценку! Будем признательны, если Вы оставите комментарий о данном произведении.

Оставить отзыв

ВходРегистрация
Забыли пароль